Self-regulating gas dosage for reactive RF sputtering of composition spread Hf oxy- nitride combinatorial layers

Megtekintés/ Megnyitás
Metaadat
Teljes megjelenítés
Link a dokumentumra való hivatkozáshoz:
Gyűjtemény
Absztrakt
We aimed to prepare single sample concept composition-spread metal oxy-nitride layers by reactive
radiofrequency sputtering for a highly efficient characterization of their optical properties in a wide range of
O/N ratios. Affinity of metals requires oxygen proportion, in the Ar-O-N plasma, be set orders of magnitude
lower compared to nitrogen. The required low partial pressure range of oxygen was covered by a new
concept self-regulating gas inlet assembly based on a peristaltic pump delivering gas from a finite volume
vial. We proved the suitability of our combinatorial method by both energy dispersive spectrometry
mapping and ellipsometry of the correlated refractive indices along a 3-component composition-spread
HfON sample.
- Cím és alcím
- Self-regulating gas dosage for reactive RF sputtering of composition spread Hf oxy- nitride combinatorial layers
- A könyvrészlet száma
- 11.
- Szerző
- Sáfrán, György
- Szász, Noémi
- Dobrik, Gergely
- Kalas, Benjámin
- Serényi, Miklós
- Szerkesztő
- Fried, Miklós
- Megjelenés ideje
- 2020
- Hozzáférés szintje
- Open access
- Konferencia címe
- Anyagtudományi Szimpózium
- Konferencia ideje
- 2020. Szeptember 23-25.
- Nyelv
- en
- Terjedelem
- 4 p.
- Tárgyszó
- self-decaying gas inlet, rf sputtering, composition spread layer, ellipsometry
- Változat
- Kiadói változat
- A cikket/könyvrészletet tartalmazó dokumentum címe
- Anyagtudományi Szimpózium (Symposium on Materials Science)
- A forrás folyóirat éve
- 2020
- ISBN, e-ISBN
- 978-963-449-236-8
- Műfaj
- Konferenciaközlemény
- Tudományterület
- Műszaki tudományok - anyagtudományok és technológiák
- Egyetem
- Óbudai Egyetem
- Kar
- Kandó Kálmán Villamosmérnöki Kar