Óbudai Egyetem Digitális Archívum
    • magyar
    • English
  • magyar 
    • magyar
    • English
  • Bejelentkezés
Megtekintés 
  •   ÓDA repozitórium kezdőoldal
  • 08. Konferenciaközlemények
  • Symposium on Materials Science
  • Symposium on Materials Science 2020
  • Megtekintés
  •   ÓDA repozitórium kezdőoldal
  • 08. Konferenciaközlemények
  • Symposium on Materials Science
  • Symposium on Materials Science 2020
  • Megtekintés
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.

Self-regulating gas dosage for reactive RF sputtering of composition spread Hf oxy- nitride combinatorial layers

Thumbnail
Megtekintés/Megnyitás
978-963-449-236-8 _ 11.pdf (302.6KB)
Metaadat
Teljes megjelenítés
Link a dokumentumra való hivatkozáshoz:
http://hdl.handle.net/20.500.14044/40891
Gyűjtemény
  • Symposium on Materials Science 2020 [11]
Absztrakt
We aimed to prepare single sample concept composition-spread metal oxy-nitride layers by reactive radiofrequency sputtering for a highly efficient characterization of their optical properties in a wide range of O/N ratios. Affinity of metals requires oxygen proportion, in the Ar-O-N plasma, be set orders of magnitude lower compared to nitrogen. The required low partial pressure range of oxygen was covered by a new concept self-regulating gas inlet assembly based on a peristaltic pump delivering gas from a finite volume vial. We proved the suitability of our combinatorial method by both energy dispersive spectrometry mapping and ellipsometry of the correlated refractive indices along a 3-component composition-spread HfON sample.
Cím és alcím
Self-regulating gas dosage for reactive RF sputtering of composition spread Hf oxy- nitride combinatorial layers
A könyvrészlet száma
11.
Szerző
Sáfrán, György
Szász, Noémi
Dobrik, Gergely
Kalas, Benjámin
Serényi, Miklós
Szerkesztő
Fried, Miklós
Megjelenés ideje
2020
Hozzáférés szintje
Open access
Konferencia címe
Anyagtudományi Szimpózium
Konferencia ideje
2020. Szeptember 23-25.
Nyelv
en
Terjedelem
4 p.
Tárgyszó
self-decaying gas inlet, rf sputtering, composition spread layer, ellipsometry
Változat
Kiadói változat
A cikket/könyvrészletet tartalmazó dokumentum címe
Anyagtudományi Szimpózium (Symposium on Materials Science)
A forrás folyóirat éve
2020
ISBN, e-ISBN
978-963-449-236-8
Műfaj
Konferenciaközlemény
Tudományterület
Műszaki tudományok - anyagtudományok és technológiák
Egyetem
Óbudai Egyetem
Kar
Kandó Kálmán Villamosmérnöki Kar

DSpace software copyright © 2002-2016  DuraSpace
Kapcsolat | Visszajelzés
Theme by 
Atmire NV
 

 

Böngészés

A teljes ÓDA-banKategóriák és gyűjteményekMegjelenés dátumaSzerzőCímTárgyszóA gyűjteménybenMegjelenés dátumaSzerzőCímTárgyszó

Személyes felhasználói fiók

BejelentkezésRegisztráció

DSpace software copyright © 2002-2016  DuraSpace
Kapcsolat | Visszajelzés
Theme by 
Atmire NV